半導體廠、科技廠-缺氧及局限空間場所主要包括進入地下電纜管線或人孔之作業、地下涵洞作業、水井或水槽清洗作業、清理汙水池作業、清理水溝及油汙作業、廢液處理槽之清理作業、化學反應槽或儲存槽之相關作業、通風不良作業等,

本公司清理消防蓄水池、清理油漬池、清理廢水池、清理污泥、清理維護保養,作業時均配戴勞工標準設備下槽(如救命器、送風機、防護用品)及提供缺氧作業主管、甲種勞工安全作業主管、有機溶劑作業主管、急救人員、通風換器設備、自供呼吸器、SCPA、人員安全器具-防護衣及濾毒罐、四合一偵測器、特定化學物質作業主管,缺氧作業場所包含:Sump Pump & Pit、自來水池、冷卻水儲槽、回收水池、廢水系統處理槽、放流水池、MMF 反洗水處理槽、電氣人孔、地下管溝、AC tank、廢硫酸儲存槽、中和槽、ACF 活性碳過濾塔、SAC 離子交換樹脂塔、廢水用氫氧化鈉儲槽、Movex tank、MGR tank、氫氟酸廢水收集槽、晶背研磨廢水收集槽、離子交換塔、再生廢水收集槽、鹽酸儲槽、氯化鈣儲槽、硫酸儲槽、純水用氫氧化鈉儲槽、氫氟酸廢水反應儲、VOC 燃燒爐、11.4KV管道間、鍋爐、地下油槽、使用 N2 之爐管機台內部及其他具有缺氧疑慮之場所,局 限 空 間 場 所 包 含 : Central Scrubber 清洗作業、Cooling tower sump、新增桶槽作業。

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